机译:用于小间距通孔的聚酰亚胺涂层的无残留等离子体刻蚀,具有改善的台阶覆盖率
机译:通过中间等离子刻蚀步骤对磁控溅射CrN涂层的结构改性
机译:压电换能器陶瓷PZT的无一步残留湿法蚀刻工艺
机译:等离子体化学刻蚀对化学组成和分子量不同的聚酰亚胺薄涂层性能的影响
机译:等离子体工艺控制可改善镁合金上的PEO涂层。
机译:电容耦合等离子体涂覆四环素印迹聚合物和量子点的复合材料对聚酰亚胺基材的有效高效预处理:与化学预处理的比较
机译:压电换能器陶瓷PZT的无一步残留湿法蚀刻工艺
机译:两种溅射磁控管系统和双光束离子系统产生的铝涂层分步覆盖的比较。